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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 化學機械拋光機CMP

    化學機械拋光機CMP簡介：1. 該化學機械拋光機可用于各類半導體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產品的CMP平坦化拋光。 通過更換拋光頭可兼容4、6、8...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 17:04:26 對比

  • 劃片機

    精密劃片機，劃片機簡介：半導體晶圓、集成電路、QFN、發光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:50:42 對比

  • CMP后清洗機

    CMP后清洗機 簡介：該系列設備是晶圓CMP后的專用清洗設備，有單工位、轉位式、連線式等不同結構，以適用不同應用場景，其中連線式設備加配全自動上下片系統。該系列...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

  • 減薄機

    減薄機 簡介：1. 可根據客戶需求定制化各類工作臺，滿足各類半導體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規格：Ø203(OD)mm4....
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:35:54 對比

  • 半導體研磨拋光機

    半導體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
    型號： customize... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:28:32 對比

  • 中央供藥系統

    中央供藥系統簡介：1.用于廠內供藥，通過該系統可以按照設定的配比，將特定的藥液通過相應的管路供應到制程中。2.該系統供藥配比精確，配方可根據客戶需要進行編輯確認...
    型號： customize... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:19:03 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    全自動SCRUBBER清洗機 簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
    型號： customize... 所在地：上海市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
    型號： UV-300H 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:39:31 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體（GaN、GaAs、InP、SiC...
    型號： UV-1 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:30:45 對比

  • 全自動CMP拋光機

    全自動CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的全自動拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同...
    型號： TPC-2110 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:27:31 對比

  • 等離子清洗設備

    PC-300等離子清洗設備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產的...
    型號： PC-300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:27:23 對比

  • CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質層）的拋光設備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統，氣...
    型號： TMP-150A/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:23:56 對比

  • cmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號： POLI-400L 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:17:26 對比

  • CMP拋光機

    POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、S...
    型號： POLI-500 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:16:20 對比

  • CMP拋光機

    POLI-762是小型12英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監控系統，用于氧化物、金屬、...
    型號： POLI-762 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:15:12 對比

  • LSA 101 激光尖峰退火設備

    LSA 101 激光尖峰退火設備 系統安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節點的先進邏輯器件的技術。LSA 101 的掃描技術...
    型號： 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:13:03 對比

  • 離子注入機

    離子注入機是高壓小型加速器中的一種，應用數量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導體材料、大規模集成電路和器件的離...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:25:56 對比

  • 快速退火爐RTP

    快速退火爐RTP主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴散，化合物半導體退火，離子注入后退火，電極合金化等。樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規整樣...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:21:08 對比

  • 電鍍設備

    電鍍設備 應用領域：Pillar，Bump，RDL，TSV等工藝 (3) 設備配置： 最多3個loadport ; 最多24個電鍍腔體：Cu、Ni、Sn/Ag、...
    型號： customize... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:17:52 對比

  • 激光退火設備

    半導體激光退火機是用于半導體制造過程中的一種設備。退火是一種熱處理過程，通過加熱半導體材料來改變其性質，以實現所需的特性，如電導率、晶體結構和應力緩解。半導體激...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:14:17 對比
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